ලේසර් පිරිසිදු කිරීමේ යන්ත්‍රය—FRZ-LC

ලේසර් පිරිසිදු කිරීමේ මූලධර්මය ප්‍රධාන වශයෙන් පදනම් වී ඇත්තේ ලේසර් සහ පදාර්ථ අතර අන්තර්ක්‍රියා මගින් ජනනය වන තාප ආචරණය, ප්‍රකාශ රසායනික ආචරණය සහ කම්පන තරංග ආචරණය මත ය.ලේසර් කදම්භය ද්‍රව්‍යයේ මතුපිටට විකිරණය කළ විට, දූෂක ද්‍රව්‍ය ලේසර් ශක්තිය අවශෝෂණය කර ඉක්මනින් රත් වේ, ප්‍රසාරණය වේ, වාෂ්ප වේ, හෝ පීල් වේ, එමඟින් පිරිසිදු කිරීම සිදු වේ.

අපව අමතන්න බාගත කරන්න

නිෂ්පාදන විස්තර

උපකරණ හැඳින්වීම

ලේසර් පිරිසිදු කිරීමේ නිශ්චිත ක්‍රියාවලියට පහත පියවර ඇතුළත් වේ:

1. ශක්ති අවශෝෂණය: ලේසර් ශක්තිය අවශෝෂණය කිරීමෙන් පසු දූෂක රත් වේ.

2. භෞතික හා රසායනික වෙනස්කම්: දූෂක ද්‍රව්‍ය දියවීම, දහනය හෝ වායුකරණය වැනි භෞතික හා රසායනික වෙනස්කම් වලට භාජනය වේ.

3. දූෂක ඉවත් කිරීම: උපස්ථරයට හානි නොකර දූෂක ද්‍රව්‍ය ද්‍රව්‍යයේ මතුපිටින් වෙන් වේ.

ලේසර් පිරිසිදු කිරීමේ වාසි අතර ඇඹරීමක් නොමැතිකම, ස්පර්ශ නොවීම, තාප බලපෑමක් නොමැතිකම සහ පරිසර හිතකාමීත්වය ඇතුළත් වේ.එය විවිධ ද්‍රව්‍ය සඳහා සුදුසු වන අතර සාම්ප්‍රදායික පිරිසිදු කිරීමේ ක්‍රම මගින් විසඳිය නොහැකි ගැටළු විසඳා ගත හැකිය.

යෙදුම් අවස්ථාව: ලෝහ, ප්ලාස්ටික්, පිඟන් මැටි සහ අනෙකුත් ද්‍රව්‍යවල මතුපිට ඇති අපිරිසිදු හා ආලේපන ඉවත් කිරීම වැනි කාර්මික ක්ෂේත්‍රයේ ලේසර් පිරිසිදු කිරීම බහුලව භාවිතා වේ, විශේෂයෙන් නිරවද්‍ය කොටස් සහ සංකීර්ණ ව්‍යුහයන් පිරිසිදු කිරීම සඳහා සුදුසු වේ.

යෙදුම් ක්ෂේත්‍ර

ලෝහ, ප්ලාස්ටික්, පිඟන් මැටි සහ අනෙකුත් ද්‍රව්‍යවල මතුපිට ඇති අපිරිසිදු හා ආලේපන ඉවත් කිරීම වැනි කාර්මික ක්ෂේත්‍රයේ ලේසර් පිරිසිදු කිරීමේ යන්ත්‍රය බහුලව භාවිතා වේ, විශේෂයෙන් නිරවද්‍ය කොටස් සහ සංකීර්ණ ව්‍යුහයන් පිරිසිදු කිරීම සඳහා සුදුසු වේ.

තාක්ෂණික පරාමිතීන්

ආකෘතිය	FRZ-LCF විසින් තවත්	FRZ-LCU	FRZ-LCG	FRZ-LCC විසින් තවත්
සාමාන්‍ය නිමැවුම් බලය(W)	100-500	5-15	20-100	20-500
තරංග ආයාමය (nm)	1070 (ජපන්)	355 යි	532 (ස්පාඤ්ඤය)	10600 ආර්.
ස්කෑන් වේගය (mm/s)	20000 යි
ස්කෑන් දිග (මි.මී.)	100--150
බල පරාසය	0--100%
බල සැපයුම	220V±10%, 50Hz
භාෂාව	චීන, ඉංග්‍රීසි කොරියානු, ජපන්
සිසිලන මාදිලිය	වායු සිසිලනය හෝ ජල සිසිලනය